全面布局加速研发，光刻胶业务蓄势待发
晶瑞电材子公司苏州瑞红深耕光刻胶近30年，产品类型丰富，技术水平处于国内领先地位。晶瑞电材子公司苏州瑞红1993年开始光刻胶生产，承担并完成了国家02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线。光刻胶产品类型覆盖高中低分辨率的 I线、G线紫外正性光刻胶、环化橡胶型负性光刻胶、化学增幅型光刻胶、厚膜光刻胶等类型，应用行业涵盖 IC、TFT-array、LED、T ouch panel、先进封装等领域。
图 ：晶瑞电材光刻胶布局
半导体光刻胶方面，公司g线、i线产品已实现量产，客户覆盖国内一流厂商。苏州瑞红完成了多款g线、i线光刻胶产品技术开发工作，并实现销售。取得中芯国际、扬杰科技、福顺微电子等国内企业的供货订单，并在士兰微、吉林华微、深圳方正等知名半导体厂进行测试。目前公司正不断扩大g/i线光刻胶的市场占有率。
高端半导体光刻胶方面，KrF光刻胶进入客户测试阶段。目前，KrF（248nm深紫外）光刻胶已完成中试，产品分辨率达到了0.25～0.13µm的技术要求，建成了中试示范线，已进入下游客户测试阶段，公司将视测试情况适时推动量产计划。
ArF光刻胶研发工作正式启动，项目投资近5亿，ASML1900Gi光刻机安装调试中。为了满足当前集成电路产业关键材料市场需求，进一步提升公司在高端电子化学品领域的地位，2021年初，公司在苏州晶瑞化学股份有限公司现有厂区内开展“集成电路用高端光刻胶研发项目”，旨在提供90-28nm 先进制程用ArF光刻胶。项目总投资48,850万元，拟使用募集资金不超过31,300万元。同时，公司于2020年下半年购买的ASML1900Gi型光刻机目前正在安装调试。公司计划2022年完成配方研制，2023年完成中试线和量产线。待最终产业化完成后，可覆盖晶圆制造28nm制程，满足除手机芯片外的大部分芯片国产化需要。
LCD光刻胶方面，公司2016年与日本三菱化学株式会社在苏州设立了LCD用彩光刻胶共同研究所，为
array工艺详解
三菱化学的彩光刻胶在国内的检测以及中国国内客户评定检测服务，并于2019年开始批量生产供应显示面板厂家。
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