pvd load lock结构
deposition
PVD (Physical Vapor Deposition) load lock结构是一种用于PVD蒸发设备的加载、卸载样品的结构。load lock是指一种密封的腔室，用于在真空环境下将样品从外部环境加载进入蒸发腔室，或将蒸发完成的样品从蒸发腔室卸载到外部环境。
PVD蒸发设备通常需要在真空环境下进行工作，以防止样品与大气中的氧气、水分等发生反应。因此，load lock结构允许将样品从大气环境加载到蒸发腔室，以及将蒸发完成的样品卸载回大气环境，而不会破坏真空度。
load lock结构通常由两个密封的腔室组成，一个用于加载样品，另一个用于卸载样品。加载样品时，首先将腔室与外部环境隔离，然后将腔室抽成真空，使其达到所需的真空度。待腔室达到真空度后，可以打开腔室的门，将样品加载到腔室中。加载完成后，关闭腔室门，并将腔室重新抽成真空，以保持真空度。
卸载样品时，同样需要将腔室与外部环境隔离，并将腔室抽成真空。待腔室达到真空度后，打开腔室的门，将蒸发完成的样品从腔室中取出。取出样品后，关闭腔室门，并将腔室重新抽成真空。
通过load lock结构，可以方便地将样品加载到PVD蒸发设备中进行处理，也可以将蒸发完成的样品从设备中取出。这样可以避免在大气环境中操作样品，保持样品在真空环境下的稳定性。

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