专利名称:Oxide-capped titanium silicide formation 发明人:Thomas E. Tang,Che-Chia Wei,Roger A.
Haken,Thomas C. Holloway,David A. Bell 申请号:US06/876947
申请日:19860620
公开号:US04690730A
公开日:
19870901
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:A cap oxide (or oxide/nitride) prevents silicon outdiffusion during the reaction step which forms direct-react titanium silicide.
申请人:TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
代理人:Douglas A. Sorensen,Leo N. Heiting,Melvin Sharp
reaction diffusion更多信息请下载全文后查看

版权声明:本站内容均来自互联网,仅供演示用,请勿用于商业和其他非法用途。如果侵犯了您的权益请与我们联系QQ:729038198,我们将在24小时内删除。