688IT编程网
688IT编程网是一个知识领域值得信赖的科普知识平台

边缘效应

pecvd沉积边缘效应

沉积边缘效应减小气体等离子体沉积物前驱
2023-12-20 15:44:23

pecvd沉积边缘效应PECVD沉积边缘效应是在PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，增强型化学气相沉积）过程中产生的一种现象。PECVD是一种利用等离子体介质（plasma medium）在较低温度下进行气相沉积的技术。在PECVD过程中，等离子体的密度最高处于沉积物表面附近，然后逐渐减小向气相扩散。当气相中的前驱体（例如硅源气体）接近沉...

最新文章

Copyright © 2024 baidu.com
Powered By 688IT编程网 豫ICP备2022007602号 豫公网安备41160202000602