寄居蟹网络用语指好吃懒做、屁事不干，一天到晚混在别人住处的人。寄居蟹，英文名称是「hermit crabs」，「hermit」就是「隐士」，意思是说寄居蟹像个隐居的蟹类，不时躲藏在贝壳里面。它总是背着它「寄居」的贝壳生活，遇到敌人就立刻缩入壳中，这种看似懦弱无能的个性，可是它的求生之道！在遍布沙泥的海底，寄居蟹的壳如同「沙漠中的绿洲」，是许多底栖生物唯一可以「立足」之地，因此背着这个家，它可以在很...

Foreword  前言This European Standard (EN50088) replaces HD271 S1: 1982 and its amendments.  However, if the products which have complied with HD271 S1: 1982 and! AMD 1 : 1986! AMD 2 : 1989! AM...

                  压铸新产品工模及样板制作计划进度表常用语工模排位图(Die location layout)         平面/实体图(2D/3D drawing) 水口设计(gate design)      ...

1.计算与的数组乘积>〉 a=［6 9 3;2 7 5];〉〉 b=[2 4 1;4 6 8］;〉〉 a。*bans =    12    36    3    8    42    402。对于，如果，，求解X。〉〉 A=［4 9 2；7 6 4；3 5 7];〉&g...

ZEMAX 中的坐标断点面的含义是什么？引言在 ZEMAX 软件中有一个面型叫坐标断点面    Coordinate Break 。它的主要作用是用来对表面或元件进行偏心或偏转。坐标断点面会将全局坐标打断，其后的表面或元件全部受到影响。下面以一个实例来说明。坐标断点面的使用下图是没有坐标断点面的的镜头：Update | gettings Print ^Vindow 了卢厂 £o...

2020年12月第44卷 第12期Vol.44No.12Dec.2020 MATERIALS FOR MECHANICAL ENGINEERINGDOI：10.11973/jxgccl202012004磁控溅射不同元素掺杂ws2薄膜的组织和纳米压痕力学性能贺江涛V，蔡海潮3，薛玉君1,2，杨芳2，马喜强2(河南科技大学1.机电工程学院，2.河南省机械设计及传动系统重点实验室，洛阳471003；3....

原子层沉积镀膜    原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）是一种重要的薄膜制备技术，它能够在纳米尺度精确地控制物质的沉积，是一种独特的化学气相沉积技术。原子层沉积技术是在晶体硅制造过程中作为薄膜制备的一种核心技术，同时在许多新兴领域得到广泛应用，如薄膜太阳能电池、LED、MEMS、柔性电子学、量子点等领域。    原子层沉...

真空镀膜pvd的工艺流程一、前言真空镀膜PVD（Physical Vapor Deposition）是一种常见的表面处理技术，广泛应用于电子、汽车、航空航天等领域。本文将详细介绍真空镀膜PVD的工艺流程。二、准备工作1. 设计产品图纸，并确定所需镀膜材料和厚度。2. 选择合适的真空镀膜设备，并进行调试和清洁。3. 检查原材料是否符合要求，如有问题及时更换或处理。三、表面处理1. 清洗：将待镀物品放...

化学气相沉积法cvd1. 什么是化学气相沉积法（CVD）?CVD是chemical vapor deposition的缩写，是一种用于有机薄膜或无机薄膜制造的技术。它是一种通过将溶剂热散发形成薄膜的过程。在溶剂中添加了几种原料，其原理是热释放过程中会产生气态原料。当这些气态化合物沉积（即固化）在共晶材料表面（如金属和绝缘体表面）上，就形成了膜。deposition2. CVD的工艺流程CVD的工艺...

莫来石化原理莫来石（Molecular Layer Deposition，MLD）是一种表面化学反应方法，用于生长具有高分子结构的薄膜。它是自组装技术的一种变种，其原理可以简述为以下几步：1. 表面活化：先将待修饰表面暴露在一种适当的活化剂中，如金属碱金属醇酸盐溶液。活化剂中的金属离子与表面上的活性位点发生化学反应，形成具有反应活性的表面。2. 分子吸附：将修饰分子（通常是含有反应基团的有机分子）...

CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积）是一种常用的薄膜生长技术，用于在固体表面上沉积薄膜材料。CVD的基本原理如下：原料气体供应：在CVD过程中，需要提供适当的原料气体。这些气体可以是气态化合物或气体混合物，其中至少包含了所需的元素或化合物。携带气体：通常需要使用携带气体将原料气体输送到反应室。携带气体可以是惰性气体（如氮气或氩气），其作用是稀释原料气体并促进其...

常见的十种表面处理方法表面处理是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。 下面介绍一些常见的表面处理方法：一．抛光抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件...

纳米结构与纳米材料基础词汇纳米科学技术Nano-ST自上而下top down自下而上bottom up纳米物质Nanostructured materials国家纳米技术推进计划National Nanotechnology Initiative--NNI纳米科学nanoscience纳米技术狭义的nanotechnology纳米工程nanoengineering超薄膜ultrathin film...

PECVD薄膜制备流程PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）是一种常用的薄膜制备技术，通过在气相状态下将化学气体物质在等离子体激发下分解并沉积在衬底表面上，从而形成一层薄膜。PECVD薄膜制备流程包括前处理、沉积和后处理三个主要步骤。下面将详细介绍PECVD薄膜制备的流程。1. 前处理（Pre-treatment）：在进行PECVD薄膜制备...

第52卷第2期表面技术2023年2月SURFACE TECHNOLOGY·289·CH3SiCl3-H2前驱体化学气相沉积法制备SiC涂层孙佳庆1,2，李江涛1，张东生1，赵红亮2，魏庆渤1，杨红霞1（1.巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司，河南 巩义 451200；2.郑州大学 材料科学与工程学院，郑州 450001）摘要：目的在石墨基座表面制备碳化硅（SiC）涂层，提高其抗氧化性和耐蚀性。方法采用...

摘要甲烷-二氧化碳干重整反应不仅可以将两种温室气体加以利用，并且所得产物中H2/CO ≤ 1，满足工业上费托（Fischer-Tropsch）合成的要求。由于NiO-MgO 催化剂中Ni的颗粒尺寸较小且表面具有碱性，因而，越来越受到关注。本论文主要针对NiO-MgO催化剂在甲烷-二氧化碳干重整中的反应机理以及催化活性展开研究。通过原位漫发射红外光谱（DRIFTS）和密度泛函理论（DFT）计算对Ni...

[Article]www.whxb.pku.edu物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao )Acta Phys.鄄Chim.Sin .,2008,24(7)：1199-1206July Received:January 7,2008;Revised:March 31,2008;Published on Web:May 4,2008.∗Corresponding author.Em...

PVD常见问题解答 Q1: 请问什么是PVD？A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。Q2: 请问什么是PVD镀膜？ 什么是PVD镀膜机？A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空...

（完整版）光伏行业英文词汇光伏行业英文词汇Cell 电池Crystalline silicon 晶体硅Photovoltaic 光伏bulk properties 体特性at ambient temperature 在室温下wavelength 波长absorption coefficient吸收系数electron-hole pairs 电子空穴对photon 光子density 密度defec...

激光加工专业术语英文翻译deposition激光加工专业术语中英互译激光加工技术laser processing technology 送粉法激光熔覆laser cladding with powder feed 送丝法激光熔覆laser cladding with filler wire 预置法激光熔覆material preset laser cladding 激光表面合金化层laser su...

A/W (artwork) 底片Ablation 烧溶(laser),切除abrade 粗化abrasion resistance 耐磨性absorption 吸收ACC ( accept ) 允收accelerated corrosion test 加速腐蚀accelerated test 加速试验acceleration 速化反应accelerator 加速剂acceptable 允收acti...

pvd膜层退镀剂PVD（Physical Vapor Deposition）膜层是一种通过物理沉积方法在材料表面形成一层薄膜的技术，广泛应用于机械、电子、光学等领域。然而，在制造过程中或因其他原因，有时需要对已形成的PVD膜层进行退镀处理。退镀剂是专门用于退除PVD膜层的化学物质，具有高效、环保、安全等优点。一、PVD膜层退镀剂的种类根据不同的退镀要求和基材类型，PVD膜层退镀剂可分为以下几类：1...

表面处理的概念拼音：biaomianchuli，英文：surface treatment   在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。 对于金属铸件，我们比较常用的表面处理方法是，机械打磨，化学处理，表面热处理，喷涂表面，钕铁硼磁性材料表面处理，全新的稳定成熟，高效率低成本的处理工艺，...

表面工程名词解释汇总第一章1 表面工程也称为“表面技术”、“表面处理”或“表面改性”，是应用物理、化学、机械等方法改变固体材料表面成分或组织结构，获得所需性能的表面，以提高产品的可靠性或延长其使用寿命的各种技术的总称。2 原子沉积：原子、离子、分子及基团在基体上的凝聚、成核、长大；例如电镀、化学镀、蒸镀、溅射、气相沉积等。3 颗粒沉积：熔化的液滴、细小颗粒在外力作用下于基体表面凝聚、沉积或烧结；例...

半导体专业词汇-20060412半导体专业词汇1. ADI 显影后检查.定义：After Developing Inspection 的缩写.目的：检查黄光室制程；光刻胶覆盖→对准→曝光→显影。发现缺点后，如覆盖不良、显影不良等即予修改，以维护产品良率、品质。.方法：利用目检、显微镜为之。2. AEI 刻蚀后检查.定义：AEI即After Etching Inspection，在蚀刻制程光刻胶去除...

脉冲激光沉积原理deposition    脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，简称PLD）是一种将激光束瞬间作用于靶材表面，使其物质溅射，在底板上沉积成薄膜的技术。该技术具有高纯度、高简化度、高复杂度、高膜质量和高可控性等优点，可广泛应用于各种材料的薄膜制备和研究。    PLD技术的实现基础是激光与物质相互作用的几个基本过程，包...

电镀中英文对照第一篇：电镀中英文对照大气暴露试验atmospheric corrosion test中性盐雾试验(NSS试验)neutral salt spray test(NSS-test)不连续水膜water breakpH计 pH meter孔隙率 porosity内应力 internal stress电导仪 conductivity gauge库仑计(电量计)coulomb meter旋转...

表面处理大汇总表面处理即是通过物理或化学的方法在材料表面形成一层具有某种或多种特殊性质的表层。通过表面处理可以提升产品外观、质感、功能等多个方面的性能。外观：颜、图案、logo、光泽\线条（3D、2D）；质感：手感、粗糙度、寿命（品质）、流线型等等；功能：硬化、抗指纹、抗划伤；一、阳极氧化阳极氧化：主要是铝的阳极氧化，是利用电化学原理，在铝和铝合金的表面生成一层Al2O3（氧化铝）膜。这层氧化膜...

真的了解镀膜工艺？先来这里看看导言镀膜是半导体及光学工业中最为重要的工艺之一。这里会总体归纳各类镀膜/薄膜工艺，从原理上了解这些工艺的异同。简介镀膜指在基材上形成从数纳米到数微米的材料层，材料可以是金属材料、半导体材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。镀膜的工艺可以最简略的分为化学工艺及物理工艺：化学方法通常是液态或者气态的前体材料经过在固体表面的化学反应，沉积一层固体材料层。以下常见的镀膜工艺都是...

pvd镀膜清洗工艺流程PVD镀膜清洗工艺流程简介随着科技的发展，PVD（Physical Vapor Deposition）镀膜技术被广泛应用于各行各业。而在PVD镀膜工艺中，清洗是非常重要的一环。本文将详细介绍PVD镀膜清洗工艺的各个流程。流程概述PVD镀膜清洗工艺流程主要包括以下几个环节：deposition1.准备清洗设备和材料2.检查待清洗物品3.预处理清洗4.主要清洗5.冲洗6.干燥7....