化学气相沉积法制作梯度折射率光学材料的详细介绍化学气相沉积法制作梯度折射率光学材料的 详细介绍主讲人： 主讲人：陈庆德 专业：09光信息科学与技术 专业：09光信息科学与技术 指导老师： 指导老师：石市委  化学沉积法定义----化学气相沉积 定义 化学气相沉积(Chemical vapor deposition,简称 化学气相沉积 ，简称CVD)是反 是反 应物质在气态条件下发生化学反...

地质构造的名词解释    地质构造是指地壳是由各种物质组成的物理结构，其中包括岩石，岩性和地形构造。它们可以形成断层，井，板块，地层，无及其他类型的地质构造。地质构造可以分为岩壳和地壳两大类，它们在地质发育过程中发挥重要作用。    岩壳是由一种晶体组成的结构，存在于地球表面至深部，其厚度介于10公里和70公里之间。岩壳由三类物质组成：火成岩、塑性岩、沉积...

一、名词解释1、层序地层学：层序地层学是在地震地层学基础上发展起来的一门相对新兴的地层学分支学科，研究以侵蚀面或无沉积作用面、或者与之可以对比的整合面为界的、重复的、成因上有联系的地层的年代地层框架内岩石间的关系的学科。2、地震地层学：是根据地震资料总的地震特征来划分沉积层序，分析沉积相和沉积环境，进一步预测沉积盆地的有利油气聚集带的一门学科。是一门利用地震资料来研究地层和沉积相的地学分支学科。...

reactor 原理气相二氧化硅增稠原理Silica (SiO2) in its gaseous state can be thickened through various methods, such as chemical vapor deposition (CVD) and aerosol processes. 二氧化硅（SiO2）在气态状态下可以通过化学气相沉积（CVD）和气溶胶过程等多种...

设计与研究D esign and Research_________________________________________________________________________2°2°年第8期激光熔化沉积制备核电级Z2CN19-10N不锈钢构件组织与力学性能研究"王庆田®®®刘正武②③李燕①王江②③郝云波®®李浩①赵凯®®(①中国核动力研究设计院核反应堆系统设计技术重点实验室，...

2016年第35卷第5期        CHEMICAL INDUSTRY AND ENGINEERING PROGRESS·1263·化    工    进    展流化床-化学气相沉积技术的应用及研究进展刘荣正，刘马林，邵友林，刘兵reactor technology（清华大学核能与新能源技术研...

lpcvd多晶硅生产工艺流程    英文回答：    Low-Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Polysilicon Fabrication Process.    LPCVD is a thin-film deposition technique used to create pol...

简述3+1型两转两吸工艺流程    英文回答：    The 3+1 type two-stage two-suction process is a commonly used process in the production of polysilicon. It consists of the following steps:   ...

ITO导电玻璃表面直接电沉积Au的机理汤儆;田晓春;周富庆;刘跃强;林建航【摘 要】reaction diffusion用循环伏安和电位阶跃法研究Au在氧化铟锡(ITO)透明导电膜玻璃表面的电沉积过程的初期阶段.发现在ITO表面Au的电沉积经历成核过程以及受[AuCl4]-扩散控制的晶核生长过程.通过改变扫描速率分析循环伏安曲线的变化,当扫描速率较快时,发现Au在ITO表面的沉积过程经历[AuCL...

Ni-Co-W合金电沉积行为及成核机理温林洁，张丽楠，周宗熠，李运刚，杨海丽*（华北理工大学冶金与能源学院，现代冶金技术教育部重点实验室，河北唐山063210）摘要：采用循环伏安、阴极极化曲线、电化学阻抗谱、计时电流等方法对Ni-Co-W合金的电沉积行为及成核机理进行研究。结果表明，Ni-Co-W合金的电沉积是一个存在成核行为的不可逆过程。Ni-Co-W合金的成核机制为瞬时成核，合金的电沉积由动力...

0 petrel相控建模 如何导入2D趋势面问题！ 描述：1图片： 描述：2图片： 描述：3图片： 描述：4图片： 描述：5图片： 最近有很多朋友问到这个问题，2D趋势面如何导，小弟整理下，其实这个问题并不是太复杂；一、工具栏--insert-new folder 创建一个文件夹，放置沉积微相平面图二、import--选择JPG/BIMP格式 --导入平面图--设置好四角坐标如图1三、在导入图片上...

简述n阱pmos的工艺流程    英文回答：    The process flow for fabricating an n-channel PMOS (p-type metal-oxide-semiconductor) transistor involves several steps. Here is a brief description of th...

太赫兹器件加工工艺流程    英文回答：    The processing of terahertz devices involves several steps to create functional devices that operate in the terahertz frequency range. Here is a general ove...

Geological  English  地质英语英语构词法（一）一、词的结构：词根（或单词）附加前、后缀1、词根、词干(root,base)词根——一般只有460余个，来源于英语、拉丁语、希腊语（同形异义根，同义异形根）。词干——加词尾之前词根的变形，常常是未经词形变化的原词。如modify的词根是mod，词干是modi；live的词根是lov，词干是love词根举例：（...

沉积学sedimentology沉积物sediment沉积岩sedimentary rock沉积作用sedimentation,deposition沉积分异作用sedimentary differentiation沉积旋回sedimentary cycle,depositional-cycle同生作用syngenesis成岩作用diagenesis后生作用(又称晚期成岩作用)epigenesist...

A开头英语单词单词词汇（1）Aabsent-minded adj. 心不在焉的absorb vt. 吸收；吸引absorbed adj. 投入的，专注的，全神贯注的absurd adj. 荒唐的，荒诞的，怪诞的academic adj. 学习良好的，学术的acceptable adj. 可接受的acre n. 英亩addition n. 加，增加in addition 另外admit vt&...

二氧化碳提炼钻石的原理二氧化碳提炼钻石是一种人工合成钻石的方法，也被称为化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition，CVD）。CVD是一种利用气相反应在高温高压条件下合成材料的方法，该方法已经被广泛应用于合成钻石、金刚石薄膜、硼氮化物等材料的生产中。二氧化碳提炼钻石的过程主要分为两个步骤：净化和沉积。首先，净化步骤是对二氧化碳气体进行净化处理，以确保原料气体的纯度。二氧化碳...

高能质子在散裂靶中的能量沉积计算与实验验证*周斌1)    于全芝2)†    胡志良1)    陈亮3)    张雪荧3)    梁天骄1)1) (散裂中子源科学中心, 东莞　523803)2) (中国科学院物理研究所, 北京　100190)3) (中国科学院近代物理研究所, 兰州　730000)...

农业机械学报第51卷增刊2 2020年12月doi:10.6041/j.issn.1000-1298.2020.S2.030固定管道式常温烟雾系统雾滴沉积仿真与试验李雪2陆岱鹏・2王士林・2范道全1周浩1吕晓兰・2（1.江苏省农业科学院农业设施与装备研究所，南京210014；2.农业部长江中下游设施农业工程重点实验室，南京210014）摘要：为了进一步研究固定管道式常温烟雾系统的风场分布特性和雾滴...

化学气相沉积特点    化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是一种制备薄膜材料的技术。它通过在气相中传输气体分子的方式沉积在物质表面上。此技术的特点如下：deposition    一、沉积速率高    化学气相沉积具有较高的沉积速率，且可保证薄膜均匀，均一。沉积的速率可以调整，可以根据所需的沉积速度...

2020年12月第44卷 第12期Vol.44No.12Dec.2020 MATERIALS FOR MECHANICAL ENGINEERINGDOI：10.11973/jxgccl202012004磁控溅射不同元素掺杂ws2薄膜的组织和纳米压痕力学性能贺江涛V，蔡海潮3，薛玉君1,2，杨芳2，马喜强2(河南科技大学1.机电工程学院，2.河南省机械设计及传动系统重点实验室，洛阳471003；3....

溅射沉积ddr计算公式溅射沉积（Sputter Deposition，简称SD）是一种常用的薄膜制备方法，广泛应用于光电子、微电子、纳米技术等领域。它通过高能离子轰击固体表面，使表面原子离开固体并沉积在目标基底上。溅射沉积的核心过程是溅射。在溅射装置中，靶材和基底置于真空室内，并通过辅助电源提供正离子束。当高能离子轰击靶材表面时，靶材中的原子被击中并弹出，形成离子和中性原子的混合束流。离子束穿过真...

溅射沉积ddr计算公式(一)溅射沉积DDR计算公式溅射沉积基本概念溅射沉积（Deposition by Sputtering，简称DDR）是一种通过离子轰击固体材料而使材料表面原子脱离并沉积到其他位置的技术。在溅射沉积过程中，离子的能量和角度对沉积膜的性质和形貌有着重要的影响。溅射沉积速率（Sputtering Deposition Rate）溅射沉积速率是衡量单位时间内溅射材料沉积到基底表面上的...

deposition同轴送粉激光定向能量沉积    同轴送粉激光定向能量沉积（Direct Energy Deposition，DED）是近年来在三维打印制造领域广为关注的新技术。该方法采用激光或电弧等热源将金属或其他材料粉末喷射到被加工件表面，同时在粉末和被加工件表面之间形成一个熔化池，通过控制粉末和能量输入来实现材料沉积和成形。同轴送粉激光定向能量沉积技术相对于其他制造技术...

原子层沉积镀膜    原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）是一种重要的薄膜制备技术，它能够在纳米尺度精确地控制物质的沉积，是一种独特的化学气相沉积技术。原子层沉积技术是在晶体硅制造过程中作为薄膜制备的一种核心技术，同时在许多新兴领域得到广泛应用，如薄膜太阳能电池、LED、MEMS、柔性电子学、量子点等领域。    原子层沉...

cvd合成钻石原理CVD合成钻石（Chemical Vapor Deposition diamond）是一种利用化学气相沉积技术合成高质量钻石的方法。其原理主要包括以下几个步骤：1. 提供碳源：通过提供合适的碳源，如甲烷（CH4）、乙烯（C2H4）等，为合成钻石提供供应碳原子的基础。2. 离子化碳源：将碳源离子化，通常使用射频等离子体产生电子和离子。3. 沉积碳原子：在合成钻石的衬底上，通过控制反...

pvd是什么意思PVD(Physical Vapor Deposition):物理气相沉积，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD一般用来表面改性或镀涂层，包括真空蒸镀、离子溅射、离子镀等。①离子溅射镀膜技术：离子溅射镀膜技术是在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通...

PVDCVD工艺参数PVD（Physical Vapor Deposition）和CVD（Chemical Vapor Deposition）是两种常用的表面涂层工艺，用于为材料表面添加附着性、耐磨性、耐腐蚀性等功能薄膜。下面将详细介绍PVD和CVD的工艺参数，以及它们各自的特点和应用。depositionPVD工艺参数：1.作用气体：PVD过程通常使用惰性气体，如氩气，用于提供等离子体和清除反应...

物理气相沉淀法物理气相沉淀法（Physical Vapor Deposition，PVD）是一种利用真空技术将固态物质直接蒸发成气态，通过凝固后的沉积反应形成薄膜的方法。以下从其基本原理、优点、缺点、应用等方面进行详细介绍。一、基本原理物理气相沉淀法的基本原理是利用真空技术，将需要制备的材料，比如金属、合金、氧化物等直接蒸发到真空沉积室的高温、低压条件中，形成气态物质后，遇到基板表面或中游气体时，...

物理气相沉积和化学气相沉积物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition, PVD) 是一种通过物理方式将源材料转化为薄膜的技术。在 PVD 过程中，源材料通常是固体或液体，通过热或电子束等方式将其转化为气态，再沉积在被涂层表面上。常用的 PVD 技术有阴极溅射、磁控溅射和真空电镀。化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD) 是一种通过化学反...