磁控溅射
磁控溅射薄膜沉积速率的研究
文章编号: 100025714(2005)042307204磁控溅射薄膜沉积速率的研究Ξ惠迎雪1,2，杭凌侠1，徐均琪1(1.西安工业学院光电工程学院，西安710032;2.西北工业大学)摘 要: 沉积速率是影响薄膜性能的重要参数，直接影响着薄膜质量的优劣.本文采用磁控溅射方法，在玻璃基底上沉积钛膜.通过对比研究了平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射两种工作模式下，靶基距、氩气流量等工艺参数对沉积速率的影...
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