前驱
pH值与反应釜转速对三元材料前驱体物理性能的影响
2019年第11期广东化工第46卷总第397期www.gdchem·71·pH值与反应釜转速对三元材料前驱体物理性能的影响李沛荣，李沃颖(江门市芳源新能源材料有限公司，广东江门529000)Effect of PH Value and Reactor Speed on the Physical Properties of TernaryMaterial PrecursorLi Peiron...
H2TiO3新型锂离子筛研究进展
第39卷 第1期 陕西科技大学学报 V o l.39N o.1 2021年2月 J o u r n a l o f S h a a n x iU n i v e...
算法6.10 迪杰斯特拉算法_数据结构(C语言版)(第2版)_[共2页]
172②一维数组Path[i]：记录从源点v0到终点v i的当前最短路径上v i的直接前驱顶点序号。其初值为：如果从v0到v i有弧，则Path [i]为v0；否则为−1。③一维数组D[i]：记录从源点v0到终点v i的当前最短路径长度。其初值为：如果从v0到v i 有弧，则D[i]为弧上的权值；否则为∞。显然，长度最短的一条最短路径必为(v0, v k)，满足以下条件：D[k]= Min{D[i...
数据结构二叉树前驱结点的实验报告
数据结构二叉树前驱结点的实验报告二叉树的前驱结点是指在中序遍历中，一个节点的前面那个节点，即左子树中最大的节点。为了实现二叉树前驱结点的查，我进行了如下实验。首先，需要定义二叉树的数据结构。在这个数据结构中，每个节点包含三个参数：值，左子节点和右子节点。这个数据结构可以使用递归方式来定义。接下来，需要定义查前驱节点所需要的函数。这个函数的参数是二叉树中的一个节点，函数的返回值是这个节点的前驱节...
二叉排序树的判定算法
⼆叉排序树的判定算法//函数功能：⼆叉排序树的判定算法/*算法思想：根据⼆叉树的特点“其中序遍历序列为有序序列”，对⼆叉树进⾏中序遍历，同时检查当前结点与其中前驱关键字值的⼤⼩。*///中序遍历过程中判定给定的⼆叉树是否为⼆叉排序树，⼊是返会true，否则返回false//pre指向中序前驱结点，初值为NULL1 typedef struct treeNode完全二叉树算法2 {3int data...
锂电正极前驱体龙头中伟股份研究报告
锂电正极前驱体龙头中伟股份研究报告一、正极前驱体龙头，业绩增长强劲1.1公司业绩高速成长中伟股份成立于2014年，于2020年登陆创业板上市。公司主要从事锂电池正极材料前驱体的生产和销售，先后建设西部、中部、南部产业基地，逐步成长为重要的锂电池材料生产企业。实控人股权集中，核心技术人员从业经历丰富。公司控股股东、实际控制人为邓伟明和吴小歌夫妇。邓伟明先生持有公司3.67%的股权，同时与吴小歌女士一...
二叉排序树的删除算法
二叉排序树（Binary Search Tree，简称 BST）是一种特殊的二叉树，它的每个节点的值满足以下性质：1.左子树上所有节点的值均小于根节点的值。2.右子树上所有节点的值均大于根节点的值。3.左、右子树也分别为二叉排序树。为了删除一个节点，我们首先需要到需要删除的节点，然后按照一定的规则替换这个节点，以保持二叉排序树的性质。以下是二叉排序树的删除算法：1.查要删除的节点：从根节点开始...
【数据结构】线索二叉树(构造与遍历)
【数据结构】线索⼆叉树（构造与遍历）主要内容基本概念遍历⼆叉树是对⾮线性结构结点的线性化过程，由此得到的遍历序列中，每个结点有且仅有⼀个前驱和后继（除了序列中的第⼀个和最后⼀个结点）。原始⼆叉链表的结点结构仅包含数据元素信息和左右指针域，若在结点结构中增加前驱和后继的指针域，则该存储结构称为线索⼆叉树。虽然可以直接增加两个指针域来实现这种结构，但这样会使结构的存储密度⼤⼤降低。（存储密度 = 数据...
线索二叉树(中序、先序、后续的前驱和后继)
先序中序后序遍历二叉树线索⼆叉树（中序、先序、后续的前驱和后继）线索⼆叉树线索⼆叉树基本概念遍历⼆叉树可以按⼀定规则得到⼀个线性序列（先序序列、中序序列、后序序列）。这些序列除头尾之外，都有且仅有⼀个前驱和⼀个后继。当遍历⼆叉树时，只能得到结点的左右孩⼦信息，⽽不能直接得到结点的前驱和后继信息，只能从根节点遍历得到，由此引⼊线索⼆叉树。线索⼆叉树就是为了加快查结点前驱和后继的速度。规定：若结点有...
pecvd沉积边缘效应
pecvd沉积边缘效应PECVD沉积边缘效应是在PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，增强型化学气相沉积）过程中产生的一种现象。PECVD是一种利用等离子体介质（plasma medium）在较低温度下进行气相沉积的技术。在PECVD过程中，等离子体的密度最高处于沉积物表面附近，然后逐渐减小向气相扩散。当气相中的前驱体（例如硅源气体）接近沉...
等离子体气相沉积法
等离子体气相沉积法等离子体气相沉积法（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD）是一种使用等离子体辅助的化学气相沉积法。该方法利用高能的等离子体活性物种来促进反应，并使气相中的前驱物分解和反应。这种方法通常用于制备薄膜材料，如硅薄膜、氮化硅薄膜等。在等离子体气相沉积法中，首先将气体前驱物引入反应室中，并在较低的压力下进行放电，产生等离子体。等离...
利用原子层沉积技术实现有机电致发光器件的薄膜封装
第43卷第8期2022年8月Vol.43No.8Aug.,2022发光学报CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE利用原子层沉积技术实现有机电致发光器件的薄膜封装刘春艳1，王源1，殷成雨1，李泽2，王振宇2，范思雨2，姜文龙1*，段羽2*（1.长春电子科技学院电子工程学院，吉林长春130114；2.吉林大学电子科学与工程学院，集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区，吉林...
